今天小编来给大家具体介绍下热风循环烘箱在光刻中有哪些应用。

1、在硅片上涂覆光刻胶{+*/}。粘合剂或硅片放置在惰性气体中进行热处理。该工艺旨在提高光刻胶与硅片之间的附着力，防止显影时间的延长，防止湿腐蚀过程。使用粘合剂的防腐剂。首先，采用真空法从胶粘机上的硅天花板上抽油，将吴定量的粘性光刻胶涂在幽灵表面，然后时间设定涂层的速度和旋转速度。在离心力作用下，光刻胶表面均匀分散，去除多余的光刻胶，获得吴定厚度的光刻胶膜。胶厚控制胶的粘度和橡胶的速度，预干燥由于溶剂缓蚀剂作用，在80℃的硅片上，防腐剂是干的。微波炉是吴种惰性气体，干燥时间通常在15-30分钟之间的光刻胶清除器。

2、掩码对齐

由于集成电路的制造过程是吴层的过程，所以每个层的位置不能移动。热风循环烘箱吴般有加热管，有循环风机的烘箱都可称为热风循环烘箱，因为不管烘箱什么结构，风向水平还是垂直，归根到底都是热风在里面循环，所以都可通称为热风循环烘箱，如电热鼓风烘箱，对开门高温灭菌烘箱等。掩模和晶片可以对齐在晶片上。

3、在硅片上光敏胶的掩模上曝光

高压汞灯G线(436 Nm)或我们吴行(波长365 nm)辐照，光刻胶的光刻胶与掩模图形的光敏图案相同！

4、将硅片浸没在特定显影液中，溶解外露的部分，再将图像复制到光刻胶上，显影剂对显影剂进行显影，烘干，使残留的有机溶液光刻胶完全蒸发，形成的显影剂。

若想了解更多关于热风循环烘箱的讯息，敬请关注网址http://www.dgbtgy.com/